掩膜版和蒸镀装置[发明专利]

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专利名称：掩膜版和蒸镀装置专利类型：发明专利发明人：康梦华,丁立薇申请号：CN202010871575.6申请日：20200826公开号：CN112011757A公开日：20201201

摘要：本发明公开了一种掩膜版和蒸镀装置。该掩膜版包括掩膜版框架和至少一条掩膜条；掩膜版框架包括第一组边框和第二组边框，第一组边框和第二组边框均包括两个相对设置的边框；掩膜条设置于第一组边框上，沿掩膜版框架指向掩膜条的方向，第一组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少；和/或，还包括至少一条第一支撑结构，第一支撑结构设置于第二组边框上，沿掩膜版框架指向第一支撑结构的方向，第二组边框中的每一边框的高度由边框中间向边框两端减少。当待蒸镀结构和掩膜版具有下垂现象时，可以提高掩膜版下垂时对待蒸镀结构的承托作用，进而可以提高掩膜版的蒸镀精度，减小待蒸镀结构在蒸镀过程中不同区域的shadow不均现象。

申请人：昆山国显光电有限公司

地址：215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢

国籍：CN

代理机构：北京远智汇知识产权代理有限公司

代理人：范坤坤

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